UV曝光機光學系統異常分析 首頁 產品應用與服務 UV曝光機光學 UV曝光機光學系統異常分析 由本公司專業服務人員攜帶儀器、量具等工具至客戶端設備進行現場量測分析，可分析項目：能量均勻度不佳造成落曝或過曝現象，光角徧移造成曝光線路之CD線寬、線距改變等異常狀況。 數量 ： 加入詢價車 相關商品與服務 UV曝光機鏡片性能檢測 (可對應波段範圍：200nm以上) 裕群光電自行開發專用軟體及專利量測儀器，客戶不需將設備移出廠外，只需由 ... UV曝光機光譜量測 (可對應波段範圍：300nm以上) 裕群光電自行開發專用軟體及專利量測儀器，客戶不需將設備移出廠外，只需由 ...
