UV曝光機光學鏡片逆向工程
本公司具備完整的光學量測儀器，可分析鏡片材質、鏡片光譜、鍍膜光譜、鏡片尺寸、鏡片焦距、鏡片精度等參數，並可配合光學模擬軟體重新建構光學路徑，以驗證鏡組量測誤差，可大幅縮短研發時程、降低失敗風險及研發成本。
本公司具備完整的光學量測儀器，可分析鏡片材質、鏡片光譜、鍍膜光譜、鏡片尺寸、鏡片焦距、鏡片精度等參數，並可配合光學模擬軟體重新建構光學路徑，以驗證鏡組量測誤差，可大幅縮短研發時程、降低失敗風險及研發成本。
