UV曝光機光學系統改造
（一）曝光面積重新設計:
當產品尺寸變更時，有些設備無法配合產品尺寸進行曝光區域變更，因此損失部分能量於無效區，本公司可依需求尺寸將光學鏡片重新設計，使其曝光區域與產品尺寸相互搭配，減少能量損失，提昇產速產能。
（二）均勻度提昇：
當產品精度變更時，有些設備之均勻度無法滿足產品精度之要求，本公司可依均勻度U%需求，重新設計鏡片，以提昇均勻度及曝光線路品質。
（三）光譜改造：
當光阻材料變更時，有些設備之光譜無法完全搭配材料的化學反應所需波長，本公司可依不同之材料吸收光譜，重新設計鏡片及鍍膜，使最終光譜符合材料吸收特性。